M4D - Systeme zur Zwei-Photonen-Polymerisation
Das direkte Laserschreiben durch Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) von Photoresisten ist eine junge Technik für die schnelle und flexible Herstellung vollständig dreidimensionaler (3D) Strukturen mit Strukturgrößen von bis zu unter 100 nm. Das M4D-Mikro- und Nanostrukturierungssystem ermöglicht die Hochgeschwindigkeitserzeugung von 2D- und 3D-Mikro- und Nanostrukturen über große Flächen und Volumina.
Anwendungen
- Mikrofluidik
- Biologie
- Medizin
- Mikorooptik
- Mikromechanik
- 3D Freiformstrukturierung
- 2D Oberflächenstrukturierung
TECHNOLOGIEN
- Polymerisation von Photoresisten mit Femtosekundenlaser
- Submikrometer-Auflösung mit Zwei-Photonen-Polymerisation
- Mikro- und Nanostrukturierung
MATERIALIEN
- Unsere optimierte Materialserie für 2PP: femtoBond®
- Standard-Fotoresists für die Lithografie
- Biologisch abbaubare und biokompatible Photoresists
FAKTEN
- Rapid Prototyping von Nanometer bis Millimeter
- Schlüsseltechnologie für 3D-Nano-Rapid-Prototyping
- Für Forschung und Entwicklung
PARAMETER
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Auflösung |
100nm – 100µm |
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Positioniergeschwindigkeit (typisch) |
bis 50 mm/s |
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Scangeschwindigkeit (typisch) |
bis 1 m/s |
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Bauraum |
10cm x 10cm x 10cm |
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Lasertypen |
Ultrakurzpulslaser |
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System |
Offenes Design, kundenspezifische |
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Stellfäche |
ca. 1 m² |
Konfigurationsbeispiel
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Femtosekunden Pumplaser Wellenlänge |
1030nm |
| Pumplaser Leistung |
10W |
| Pumplaser Rep.-Rate |
1kHz bis 1 MHz |
| Pumplaser Pulsdauer |
290 fs-10 ps |
| Zweite Harmonische Generator: |
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Laserausgangsleistung |
>0,7 W |
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Pulslänge |
< 100 fs |
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Wellenlänge |
515 nm |
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Repetitionsrate |
75 MHz ± 1 |
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Linearachsen |
luftgelagert |
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bidirektionale Wiederholbarkeit |
< ±0,075 µm |
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Geschwindigkeit (ohne Last) |
(XY) 2m/s , (Z) 1m/s |
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Objektiv |
NA 0.5 |
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2PP-Strukturhöhe (Z) |
WOW-2PP vorbereitet, Aufbauhöhe in Z nur durch Laufweg der Z-Achse beschränkt |
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Software |
erweiterbar durch eigene Visual Studio Module |
Andere Konfigurationen verfügbar.