EUVT2 - Debrisfreie EUV-Quelle für die Metrologie

Die EUV-Röhre der Laser nanoFab GmbH ist eine kompakte und benutzerfreundliche Extrem-Ultraviolett (EUV)-Quelle für die Metrologie. Die Quelle basiert auf fortschrittlicher Mikrofokus-Röntgenröhrentechnologie, die auf den EUV-Spektralbereich erweitert wurde. Die EUV-Emission wird durch die Kollision von Elektronen mit Festkörpertargets erzeugt. Dieses Konzept garantiert einen debrisfreien Betrieb, gut definierte Leistungsmerkmale und eine ausgezeichnete zeitliche und räumliche Langzeitstabilität.

EUV LEISTUNG

Gegenwärtig werden EUV-Leistungen von bis zu 20 μW (2π sr, 2% bw) erreicht. 

STABILITÄT

Die EUV-Quelle weist eine ausgezeichnete Langzeitstabilität auf. Im Dauerbetrieb wurden die Schwankungen über einen Zeitraum von drei Tagen gemessen und liegen typischerweise unter 1 %.

QUELLENGRÖSSE

Die Größe der Quelle liegt unter 10 µm und kann über die Betriebsspannung und den Strom variiert werden. Quellengrößen von 100 μm und mehr sind möglich (FWHM).

SCHNITTSTELLE

Die EUV-Röhre wird mit einem Standard-Vakuumflansch geliefert, so dass der Anschluss an Ihren Vakuumaufbau einfach ist. Der EUV-Emissionskegel ist auf der Flanschachse zentriert.

OFFENE BAUWEISE

Kundenspezifische Anpassungen sind möglich.

ANWENDUNGEN

► Wellenlängencharakterisierung von optischen EUV-Komponenten, 
     z.B. Multilayer-Spiegel, Masken oder Filter
► Off-Synchrotron-Kalibrierung von EUV-Werkzeugen, 
     z. B. Spektrographen und Energiemonitoren
► EUV-Abbildung und -Mikroskopie mit hoher lateraler Auflösung

SCHLÜSSELFAKTOREN

► Kompakter Aufbau, einfache und intuitive Bedienung
► Debrisfreier Betrieb
► Exzellente zeitliche und räumliche Langzeitstabilität
► Sehr niedrige Betriebskosten
► Computergesteuert (Inbetriebnahme, Zentrierung, Fokussierung, Betrieb)